| 구분 |
특허 |
| 등록권자 |
주식회사 그래핀랩 |
| 출원번호 |
10-2021-0188779 |
| 출원일 |
20211227 |
| 등록번호 |
10-2395072 |
| 등록일 |
20220502 |
| 내용 |
본 발명은 면저항이 낮은 그래핀 제조용 식각액 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 황산, 과산화수소, N-헤테로고리 방향족 화합물, 방향족 붕산 및 정제수로 이루어진다.
상기의 성분으로 이루어지는 식각액 조성물은 화학기상증착법(CVD, Chemical Vapor Deposition)을 통해 제조되는 그래핀의 면저항을 현저하게 감소시키는 효과를 나타낸다.
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