| 구분 |
특허 |
| 등록권자 |
씨에스이(주) |
| 출원번호 |
10-2021-0174385 |
| 출원일 |
20211208 |
| 등록번호 |
10-2386541 |
| 등록일 |
20220411 |
| 내용 |
반도체 공정에서 사용된 화학물질을 수용하여 냉각하기 위한 냉각탱크와, 냉각탱크 내부에 수용된 화학물질을 열교환을 통해 냉각시키기 위한 열교환매체를 냉각탱크 내부로 공급하기 위한 열교환매체 공급부 및 열교환매체 공급부를 통해 공급될 열교환매체를 냉각시키는 냉각유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정에 사용된 화학물질 냉각장치가 개시된다.
|