등록특허현황

여울 순환형 고효율 인공습지
by 패스특허 | Date 2018-12-31 10:58:37 hit 7,178
구분 특허
등록권자 주식회사 비엔에코, 주식회사 태하
출원번호 10-2017-0183878
출원일 20171229
등록번호 10-1922200
등록일 20181120
내용
본 발명은 고효율 인공습지에 관한 것으로서, 원수유입부와 처리수방류부 사이에 순차적으로 배치되어 원수에 포함된 오염물질을 처리하는 복수개의 독립형 습지반응조와, 상기 복수개의 독립형 습지반응조 사이에 구비되어 난류를 형성하여 수중으로 산소를 공급하는 자연석 인공여울습지(400)를 포함하되, 상기 복수개의 독립형 습지반응조는, 원수에 포함된 입자성 오염물질을 침강 제거하는 제1수생식물(120)이 식재된 부유습지(110)가 구비된 침강지(100)와; 상기 침강지(100)의 후단에 구비되며, 생태먹이망의 순환을 통해 처리수의 오염물질을 제거하는 제1깊은습지(200)와; 상기 제1깊은습지(200)를 경유한 처리수가 유입되며, 처리수의 오염물질을 산화 분해하는 미생물이 부착되는 수생식물(310,510)이 식재되는 한 쌍의 지표흐름습지(300,500)와; 상기 지표흐름습지(300,500)를 경유한 처리수를 상기 처리수방류부로 방류시키는 제2깊은습지(600)를 포함하며, 상기 자연석 인공여울습지(400)는 상기 한 쌍의 지표흐름습지(300,500) 사이에 배치되며 자연석 모듈(410)이 구비되는 것을 특징으로 한다.

 

 



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