| 구분 |
특허 |
| 등록권자 |
(주) 테크윈 |
| 출원번호 |
10-2015-0093606 |
| 출원일 |
20150630 |
| 등록번호 |
10-1738106 |
| 등록일 |
20170515 |
| 내용 |
처리할 대상가스가 유입되는 가스 유입구와 유입된 가스가 처리된 후 배출되는 처리가스 배출구 및 유입되는 가
스를 처리한 처리수가 배출되는 처리수 배출구를 가지는 스크러버와, 스크러버 내부로 원수를 전기분해하여 생성
된 세정액을 공급하여 가스 유입구를 통해 유입된 대상가스를 처리하여 유해물질을 제거하도록 하는 전기분해수
공급장치, 스크러버 내부에서 광을 조사하여 세정액으로부터 반응성이 높은 라디칼 생성을 촉진시킬 수 있는 램
프 및, 스크러버 내부에 설치되어 세정액으로부터 라디칼 생성을 촉진시키는 광촉매를 포함하는 것을 특징으로
하는 스크러버 시스템이 개시된다.
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