| 구분 |
특허 |
| 등록권자 |
김헌상 |
| 출원번호 |
10-2021-0038824 |
| 출원일 |
20210325 |
| 등록번호 |
10-2518029 |
| 등록일 |
20230331 |
| 내용 |
본 발명은 폴리에스터용 마스터 배치 조성물 및 그 조성물이 함유된 폴리에스터 원사에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 폴리에스터에 산화그래핀 분산액을 혼합하여 이루어진다.
상기와 같이 산화그래핀 분산액이 혼합되는 폴리에스터용 마스터 배치 조성물은 원적외선 방출 및 항균성능이 부가될 뿐만 아니라, 윤활성, UV 차단성, 전기전도성 및 방열특성을 나타내며, 내스크래치성, 내마모성, 인장강도, 굴곡강도 및 굴곡탄성율 등과 같은 기계적 물성이 향상된 폴리에스터 원사를 제공한다.
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