| 구분 |
특허 |
| 등록권자 |
주식회사 네오엔프라 |
| 출원번호 |
10-2022-0104883 |
| 출원일 |
20220822 |
| 등록번호 |
10-2534123 |
| 등록일 |
20230515 |
| 내용 |
본 발명은 산화그래핀이 함유된 폴리에스터 원사에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 폴리에스터 및 폴리에스터용 산화그래핀 마스터 배치 조성물로 이루어진다.
상기와 같이 산화그래핀이 함유된 폴리에스터 원사는 원적외선 방출 및 항균성능이 부가될 뿐만 아니라, 윤활성, UV 차단성, 전기전도성 및 방열특성을 나타내며, 내스크래치성, 내마모성, 인장강도, 굴곡강도 및 굴곡탄성율 등과 같은 기계적 물성이 향상된 폴리에스터 원사를 제공한다.
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